一、 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)

1.1本方案涉及的流程及設(shè)備是為了滿足：生產(chǎn)工藝用水項(xiàng)目，要求如下：

1.1.1產(chǎn)水用途：半導(dǎo)體用水

1.1.2系統(tǒng)總進(jìn)水量：預(yù)處理：10.0m³/hr

1.1.3系統(tǒng)出力：一級(jí)RO純水處理：6.0m³/hr；回收率：60%；

二級(jí)RO純水處理：5.0m³/hr；回收率：85%；

15%的濃水回流至一級(jí)RO純水系統(tǒng)

EDI純水處理：5.0m³/hr；回收率: 90%；

10%的濃水回流至二級(jí)RO純水系統(tǒng)

1.1.4終端產(chǎn)水水質(zhì)：拋光混床電阻率：≥18MΩ.CM

                     TOC≤10μg/L

                     微粒子數(shù):0.1μm以上≤10個(gè)/ml

                     細(xì)菌個(gè)/ml≤0.01

1.1.5運(yùn)行方式：自動(dòng)運(yùn)行（并具備手動(dòng)操作功能）。